High-NA-EUV: ASML plant gr��ere Masken, Intel knackt die Millionen-Wafer-Marke

Gr��ere Masken bringen bei High-NA-EUV die aktuelle Reticle Size zur�ck. Intel nutzt ASMLs n�chste Scanner-Generation bereits in der Serienfertigung. (Halbleiterfertigung, Intel)