Un consortium mené par le laboratoire de Shanghai IA a mis au point un système de R&D en boucle fermée "IA + synthèse automatisée" pour créer une résine photo-résist KrF de haute pureté et cohérence. Cette percée réduit la dépendance à des fournisseurs étrangers et ouvre une voie standardisée et rapide pour le développement de matériaux de puces à l'échelle mondiale. L'approche " pilotée par les données " remplace la méthode " pilotée par l'expérience ", garantissant une stabilité et une qualité supérieures.

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